Китайские производители чипов накопили сотни иммерсионных литографических установок ASML, работающих в глубоком ультрафиолете (DUV). Хотя они уступают передовым EUV-системам, такое оборудование можно использовать для выпуска 7-нм логических чипов и памяти для ИИ-ускорителей. Часть установок, приобретённых для зрелых техпроцессов, может быть перепрофилирована под более передовое производство — это поддерживает полупроводниковые амбиции Китая даже в условиях экспортных ограничений. Источник изображений: asml. com К началу 2026 года принадлежащие китайским компаниям предприятия приобрели около 343 иммерсионных DUV-систем, говорится в докладе вашингтонского Центра технологий и государственного управления (CTS). Примерно 270 из них — ASML Twinscan NXT:1980i
